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日本JFE-EH500耐磨板现货这些氯化物都进入盐酸溶液。因生成的GeCl。的沸点比其他大多数杂质氯化物都低，通过控制适当的蒸馏温度，优先使GeCl4蒸馏逸出，而其他杂质氯化物仍留在盐酸溶液中，实现锗和大部分杂质分离。鉴于GeCl3的沸点和GeCl4相近，前者为403K，后者为356K，在蒸馏过程中不易分离。为此须在氯化浸出时加入氧化剂MnO2或通入氯气把GeCl3氧化啦高价的砷酸H2AsO4。H2AsO4沸点高，在蒸馏温压：下仍保留在盐酸溶液中，达到与GeCl4初步分离。

工艺锗精矿放在200．。的搪瓷釜内，按其成分加入所需的9tool／L浓度的盐酸和MnO2粉；在383K温度下氯化，并保温1h，冷凝器保持全回流。在氯化结束后再蒸馏o．5h以截取GeCl4，未冷凝的GeCl4气被通过的7mol／L浓度的盐酸吸收。所得粗GeCl4的浓度为2～3mol／L，并含砷、硅、钙、镁、铝、铁、铅及锌等杂质。

粗GeCl4用饱和氯的盐酸萃取和精馏相结合的工艺提纯。在饱和氯的浓盐酸萃取中，GeCl4因不溶于浓盐酸，也不和它混合，日本JFE-EH500耐磨板现货而与溶于浓盐酸中的砷、锑、锡、钛等杂质分离。所得GeCl4还达不到所要求的纯度，还需经精馏进一步提纯。精馏时截取低沸点馏分（约10％体积），以除去SiCl4和BCl3。所截取馏分随后在回流比3：1～5：1条件下精馏便可得到高纯GeCl4。精馏速率一般控制在200ml／h。高纯GeCl。经过石英管道送至水解槽水解。386水解用电阻率大于10Mgl的去离子水，水解比为GeCl4：H2O=1：6．5。在水解过程中，GeCl4转变成GeO2：GeCl4+2H2O=GeO2+4HCl水解后过滤所得的GeCl4，置于石英皿内放入约623K的炉内烘干12～16h。干的GeCl4放入间歇或连续还原炉内，在873～923K下通氢还原得到金属锗粉。还原结束后，还原炉改通氮气，在氮气氛下将金属锗粉熔铸成锭。锗锭经定向凝固提纯，获得电阻率为500～20001]?m的金属锗。如要求达到电子级纯度，须再进行区域熔炼提纯。日本JFE-EH500耐磨板现货经区域熔炼提纯的多晶锗，其电阻率可达5000Ωm，可作为控制锗单晶原料。--------------------
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